Silicide formation with double thin film layers of metals on single crystal silicon
by Terje G. FinstadFinstad, Terje G.
Bok Engelsk utgitt 1980
Ledig
- Automatlager: 2 av 2 ledig
*001724592 *00520230310103448.0 *007cr *007ta *008091231s1980 no# 000 0 eng d *00901109cam a2200325 c 4500 *015 $a8003424$2nbf *019 $bl *035 $a(EXLNZ-47BIBSYS_NETWORK)998121542584702201 *035 $a(NO-LaBS)13930776(bibid) *035 $a(NO-TrBIB)09416939x *035 $a(NO-TrBIB)812154258 *035 $a812154258-47bibsys_network *040 $aNO-TrBIB$bnob$ekatreg *044 $cno *080 $a538.975 *080 $a546.281 *08274$a530.4$qNO-OsNB$23/nor *1001 $aFinstad, Terje G.$0(NO-TrBIB)90093665$_83657200 *24510$aSilicide formation with double thin film layers of metals on single crystal silicon$cby Terje G. Finstad *260 $aOslo$bInstitute of Physics, University of Oslo$c1980 *300 $a1 b.(fl.pag.)$bill.$c4° *500 $aDr.avh. Universitetet i Oslo. *500 $aHar bibliografi. *533 $aElektronisk reproduksjon$b[Norge]$cNasjonalbiblioteket Digital$d2008-12-22 *85641$3Fulltekst$uhttps://urn.nb.no/URN:NBN:no-nb_digibok_2008122200060$yNettbiblioteket$zDigital representasjon *901 $a80 *913 $aNorbok$bNB *917 $ad *999 $aoai:nb.bibsys.no:998121542584702202$b2021-11-14T20:44:54Z$z998121542584702202 ^